Produktbeskrivning
PEES (pEES) bär syralabil etoxietoxiskyddsgrupp, som snabbt kan avlägsnas från skyddet under syrakatalys. Den har bra termisk stabilitet och ultralåga metallföroreningar. Det kan polymeriseras för att framställa polyhydroxistyren (PHS) för högupplöst KrF kemiskt förstärkt fotoresist.
Produktspecifikation
| Produktnamn | PEES/4-(etoxietoxi)styren |
| CAS NR | 157057-20-0 |
| ARTIKELNR | M120 |
| Utseende | Färglös klar vätska |
| Renhet | Större än eller lika med 99 % |
| Vatteninnehåll | Mindre än eller lika med 0,05 % |
| Metalljonföroreningar | Mindre än eller lika med 1 ppb |
| Paket | 100g/1kg/10kg etc. |
| Leverans | 2-3 dagar |
| Lagring | rumstemperatur |
| MSDS/COA/TDS | Anslut oss |
Produktapplikation
PEES (p-(1-Ethoxyethoxy) styren) används huvudsakligen för KrF-fotoresisthartssyntes i halvledarmikroelektronik, funktionella polymermaterial och avancerad FoU-industri för nya material.
FAQ
F: Vilka är lagringskraven för PEES?
S: Stabiliserad med TBC-hämmare. Förvara förseglad vid 2~8 grader borta från ljus. Isolera luft och värmekälla för att förhindra självpolymerisering av vinyl och för tidig avskyddning med syra.
F: Vad är principen för PEES monomer i KrF fotoresist hartssystem?
S: PEES innehåller syrakänslig etoxietoxiskyddsgrupp. Fotosyra som genereras efter exponering för litografi utlöser avskyddning. Hartset ändras från alkaliolösligt till alkalilösligt för att realisera wafermönsterutveckling.
F: Vilket skydd krävs för PEES-drift enligt SDS?
S: Det irriterar ögon, hud och luftvägar. Drift ska utföras i dragskåp med skyddsglasögon, lösningsmedelsresistenta handskar och ansiktsskärm.
F: Vad är kärnskillnaden mellan PEES och pACS / PTBS fotoresistmonomerer?
S: PEES har etoxietoxiskyddande grupp med snabb syraavskyddande hastighet. pACS behöver hydrolys för avskyddning, PTBS har tert-butoxigrupp. De är designade för olika fotoresistkänslighet.
F: Vad händer med den syralabila skyddsgruppen av PEES-monomer under KrF-fotoresistexponering?
S: Fotosyra bildas vid exponering. Etoxietoxiskyddsgruppen klyver snabbt. Polymeren förvandlas till fenolisk hydroxylstruktur, och ändras från alkaliolöslig till alkalilöslig för litografisk mönsterutveckling.
Populära Taggar: cas nr:157057-20-0 pees/4-(etoxietoxi)styren, Kina cas nr:157057-20-0 pees/4-(etoxietoxi)styren tillverkare, leverantörer
